포스텍 연구팀, 초박막 실리콘 양면에 반도체 소자 구현 < 데스크기사 < 뉴스

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제목	포스텍 연구팀, 초박막 실리콘 양면에 반도체 소자 구현
방송일	2026-04-27	기자	박성아	조회	51
포스텍 연구진이 종이 두께의 실리콘 앞뒷면 모두에 반도체 소자를 구현하는 공정 기술을 개발했습니다. 포스텍 김석 교수팀은 머리카락 굵기의 10분의 1수준의 초박막 실리콘 양면에 핵심 반도체 공정을 구현하는 데 성공했다고 밝혔습니다. 연구팀은 이번 연구가 반도체 집적도를 획기적으로 높여 고성능 3차원 반도체 개발에 활용될 수 있다고 설명했습니다.