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국내 연구진이 차세대 3D 낸드 반도체의 성능 한계를 극복할 수 있는 '실리콘 결정 성장 방향 제어 기술'을 개발했습니다. 포스텍 황현상 교수팀은 결정이 자라는 방향을 유도하는 기술을 개발해, 기존 실리콘 결정화 공정의 한계를 극복하고 긴 채널에서도 균일한 결정 구조를 구현하는 데 성공했습니다. 연구팀은 이번 연구가 향후 고집적·고성능 메모리 반도체 개발을 위한 핵심 공정 기술로 활용될 가능성을 보여줬다고 설명했습니다.
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