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포항 산업과학 연구원은 방사광 가속기를 이용해 국내 최초로 실리콘 웨이퍼 표면에 부착돼 있는 초극미량의 원소를 분석할 수 있는 기술을 개발했습니다.
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전력전자 연구팀이 기존의
X-선보다 만배나 강한 방사광
X-선으로 개발한 원소분석 기술은
실리콘 웨이퍼 등 극도의 청결성을 필요로 하는 제품들의 오염원 분석을 통해 첨단의 부가가치 제품을 생산할 수 있게 됐습니다.
일반적으로 1기가 D램 등 반도체 소자에 금속 오염물질이 극미량이
섞여 있어도 최첨단 소자로서의
동작기능 저하와 기능상실을
일으킬 수 있습니다.
원소분석 기술은 차세대 반도체
소자인 1기가 D램용 실리콘 웨이퍼뿐만 아니라, 표면처리강판과 고정강판 등의 표면 극미세원소 분석에도 이용될 수 있어 철강산업 제조공정의 안정성과 고급강 생산을 꾀할 수 있게 됐습니다.==
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